鄂州市葛店国家经开区泛半导体产业园项目选址位于鄂州葛店经济技术开发区。地块的用地范围为：人民西路以北，建设大道以西，西侧紧邻规划杜肯生产基地项目，东侧紧邻谷家网，周边基础设施完善，交通便捷。用地项目用地形状为不规则多边形，场地西部宽度约为357米，东部宽度约为311米，场地北部长度约为328米，南部长度为346米，用地面积为121919.105平方米(合182.879亩）。

本项目所在地毗邻武汉半导体产业的核心区---东湖高新区，项目的建设可以作为核心区域的有力支撑。针对武汉东湖高新区半导体产业的发展特点，从半导体产业延链、强链、补链的角度出发，定位为“泛半导体产业园”，重点承接东湖高新半导体产业外溢的产业链企业，聚焦泛半导体产业领域各类企业，以及强关联的各类设备制造企业，成为助力鄂州经济高质量发展的产业引擎。

本项目总用地面积121919.105㎡，折合182.892亩，总建筑面积178447.25㎡，计容建筑面积174867.12㎡。

其中，东区：项目规划用地面积60085㎡，总建筑面积83426.54㎡，建设主要内容为A型厂房（小厂房）、B型厂房（中厂房）、弹性厂房、门房、食堂及活动中心等生活服务类用房及配套建筑。

西区：项目规划用地面积61834.105㎡，总建筑面积94663.34㎡，建设主要内容为B型厂房（中厂房）、C型厂房（大厂房）、研发生产楼、动力站、甲类库房、地下消防水池及设备用房及配套建筑。

（湖北日报客户端通讯员 韩爱雪）